GP-65.5 高真空控制摆阀 提供高度可控的流导曲线，其平稳的启闭动作可将颗粒数和颗粒生成水平降至极低，这也是其核心优势之一。
该系列专为苛刻工艺而设计，例如半导体生产过程中的 腐蚀性刻蚀 和 清洗 应用。在这些场景中，当初始可控流导较低时，需要精准可控的流导曲线。
GP-65.5 系列 口径为 DN 250 mm (10"")，可将最小流导精确控制至仅 2 ls⁻¹。配备的 32 位驱动控制器 具备**的数据处理能力，可实现极细腻的流导调节，并支持**快的驱动响应速度。与传统 16 位控制器相比，其传感器与控制指令的处理速度显著提升。控制器提供多种标准端口接口，可通过 PC 或过程控制单元便捷访问。
钟摆阀板机构采用坚固耐用的设计，可抵御各类工艺副产物。其开启与关闭动作采用 分离式设计，减少密封磨损并避免颗粒生成。阀门开启初期通过 垂直远离阀座运动 实现**级流导，随后通过 水平运动 增加流导，从而实现精准流量调控。
预设的运动顺序可根据工艺需求进行优化调整。为确保密封可靠性，该系列采用 专利压杆机构 将阀板均匀压紧在阀座上，保证密封压力在整个密封面均匀分布，确保高真空密封性能。GP-65.5 高真空控制摆阀主要特点

特点
• 在恶劣工艺环境下提供可靠隔离
• 低冲击启闭，低颗粒生成量
• 工艺惰性高，残余气体极低（RGA）
• 运行快速，可调节
• 配备上压力控制器
可选传感器电源，仅需单一电源

优势
• **的压力控制性能
• 运行快速，几乎无颗粒产生
• 可根据工艺需求灵活调整